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产品名称:电子/电镀用纯水设备
产品编号:
上架时间:2014-8-22
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上一页:制药厂用纯水设备

◇ 产水量:5000L/H
◇ 水质:电阻率10MΩ.cm
◇ 制水工艺采用:反渗透+双纯水EDI技术
◇ 产水符合国家电子工业用水标准
◇ 运行成本低,占地面积小、水质稳定
◇ 无污水排放、不会因再生而停机

应用领域:
电镀(镀金、镀银、镀络、塑料电镀、镀铬、镀锌)等用纯水、玻璃镀膜用电镀超纯水超声波清洗、超音波清洗用纯水、化学镀、电泳用纯水或超纯水汽车、家电、建材产品表面涂装、清洗纯水或超纯水,其它要求的表面处理用纯水或超纯水。电解电容器生产铝箔及工作件的清洗;电子管生产;电子管阴极涂敷碳酸盐配液;显像管和阴极射线管生产配料用纯水黑白显像管荧光屏生产;玻壳清洗、沉淀、湿润、洗膜、管颈清洗用纯水;液晶显示器的生产;屏面需用纯水清洗和用纯水配液晶体管生产中主要用于清洗硅片,另有少量用于药液配制集成电路生产中高纯水清洗硅片等.

 注:双纯水EDI为本公司专利技术、无需酸碱再生、无需更换耗品、环保节能、取代离子交换工艺

双纯水EDI与传统EDI膜块比较具有以下优点:
◇ 唯一具有双纯水通道的EDI膜块、能耗低、产水量大
◇ 膜块内部阻力小、不易堵塞、不易破损
◇ 工作压力小、不易漏水、使用寿命长
◇ 超宽纯水通道、换交面积大、无需多级、产水电阻率高
◇ 电导性强的浓水通道、无需加盐、无需循环
◇ 加宽极水通道、不腐蚀、防止结垢